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T/CASAS 033-2024 碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)功率器件开关动态测试方法

  • 文件大小:7.2 MB
  • 标准类型:团体标准规范
  • 标准语言:中文版
  • 文件类型:PDF文档
  • 更新时间:2025-06-28
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资料介绍

以下是文档《碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiC MOSFET)功率器件开关动态测试方法》(T/CASAS 033-2024)的主要内容总结:


​一、范围与适用性​

  1. ​核心范围​

    • 规定​​双脉冲测试​​条件下SiC MOSFET功率器件的开关动态测试方法。
    • 适用于​​分立器件​​和​​功率模块​​等封装形式的SiC MOSFET。
    • SiC JFET、BJT、IGBT等其他SiC晶体管可参照执行。
  2. ​测试目标​

    • 测量开关时间(开通/关断延迟、上升/下降时间)、开关损耗、开关速度(dv/dt、di/dt)及反向恢复特性。

​二、测试电路与条件​

  1. ​测试电路​

    • ​双脉冲测试电路​​(图1):
      • 被测器件(DUT)位于下桥臂,钳位电感连接桥臂中点与直流母线正极。
      • 上桥臂器件类型(如二极管或MOSFET)需在结果中注明。
    • ​工作波形​​(图2):
      • 第一个脉冲宽度(tₚₒₙ₁)≤ 200μs,避免器件自发热影响结果。
  2. ​关键测试条件​

    • ​环境要求​​:
      • 温度20–30℃、湿度30–65%、海拔≤2000m。
    • ​直流电源​​:
      • 输出电压误差<±0.5%,充电速度≤1000V/s。
    • ​直流母线电容​​:
      • 容值需满足 C_{dc} /geq /frac{L I_L^2}{K_v V_{dc}^2}(电压波动率Kᵥ=1–5%)。
      • 降低寄生电感(Lₑₛₗ + L₋ᵦᵤₛ),避免使用缓冲电路。
    • ​钳位电感​​:
      • 电感值范围 /frac{V_{dc} t_{on}}{K_i I_L} /leq L /leq /frac{V_{dc} t_{max}}{I_{Lmax}}(电流波动率Kᵢ=1–5%)。
      • 需为​​空心电感​​,饱和电流>测试电流,等效并联电容(Cₑₚc)≤器件输出电容的10%。
    • ​驱动电路​​(图4):
      • 驱动芯片需高CMTI(≥100V/ns)、低输入输出电容(Cᵢₒ≤5pF)。
      • 驱动电阻设计需满足峰值电流公式(式6-7)。
    • ​温控平台​​:
      • 控温范围室温–175℃,精度±2%,结温需稳定后测试。

​三、测试仪器与方法​

  1. ​仪器要求​

    • ​电压探头​​:
      • 带宽≥500MHz,输入电容<5pF,CMRR≥80dB@0Hz/60dB@100MHz。
    • ​电流探头​​:
      • 带宽≥200MHz,寄生电感<5nH,噪声<0.1mA。
    • ​示波器​​:
      • 带宽≥500MHz,分辨率≥10位,采样率与存储深度需足够。
  2. ​测试步骤​

    • ​校准​​:探头调零、延迟校正(同步误差<0.5ns)。
    • ​接线​​:采用开尔文连接,避免多点接地。
    • ​数据处理​​:多次测试取平均值,数字滤波降噪。

​四、结果计量方法​

  1. ​开关时间定义​​(图8)

    • ​开通过程​​:
      • 延迟时间t₍ₒₙ₎(V₍gₛ₎↑10% → I₍dₛ₎↑10%)。
      • 上升时间tᵣ(I₍dₛ₎从10%→90%)。
    • ​关断过程​​:
      • 延迟时间t₍ₒff₎(V₍gₛ₎↓90% → I₍dₛ₎↓90%)。
      • 下降时间tf(I₍dₛ₎从90%→10%)。
  2. ​损耗计算​

    • ​开通损耗Eₒₙ​​:积分区间 V₍gₛ₎↑10% → V₍dₛ₎↓3%。
    • ​关断损耗Eₒff​​:积分区间 V₍gₛ₎↓90% → I₍dₛ₎↓3%。
    • ​反向恢复损耗Eᵣᵣ​​(图9):积分区间 V₍ₛd₎↓0 → I₍ₛd₎↓2%。
  3. ​开关速度​

    • dv/dt:电压变化率(10–90%区间)。
    • di/dt:电流变化率(10–90%区间)。

​五、安全与记录​

  1. ​安全规范​

    • 高压/高温区域需隔离防护,测试时需专业人员操作。
    • 符合GB 4793.5-2008(电气安全)和GB/T 19212.17-2019(电源安全)。
  2. ​测试记录​

    • 使用标准化表格(附录A),记录电路配置、测试条件及结果参数(如t₍ₒₙ₎、Eₒff、di/dt等)。

​六、技术背景​​(引言部分)

  • SiC器件因​​高压/高频/高温​​特性突破硅器件极限,传统测试方法无法满足需求。
  • 本标准旨在解决SiC测试缺乏​​定量规范​​和​​行业共识​​的问题,推动第三代半导体产业发展。

总结覆盖文档核心内容:测试原理、硬件配置、仪器标准、计量方法及安全要求,严格遵循原文技术细节。

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